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搜尋「微縮」,共 613 筆

面對全球半導體產業競爭及先進製程持續升級,韓國政府正將晶片研發、製造聚落與能源基礎設施納入整體產業布局。韓國總統李在明11月2日於國會發表2027年度預算演說,提出總規模820.9兆韓元的預算案,其中規劃投入21.3兆韓元推動人工智慧及半導…

先進半導體微影持續微縮,奈米結構能否在檢測過程中維持完整,成為材料開發與製程驗證的重要關卡。國研院國儀中心攜手汎銓科技,開發低於100℃的原子層沉積(ALD)鍍膜技術,在高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影使用的金屬氧化物光阻(…

AI把半導體競爭推向一個新的分界。過去業界習慣把先進製程理解為更小的電晶體、更多的曝光層數,今天的系統效能愈來愈取決於GPU、AI ASIC、HBM與各類Chiplet如何被連接、供電、散熱與測試。封裝不再只是晶圓完成後的保護與接腳,而是系…

AI伺服器競爭正在從GPU、HBM與高速網路向更上游材料及製程設備延伸。隨著高速訊號、功耗與PCB層數增加,Low-Dk玻纖布、低粗糙度銅箔與高階CCL成為AI硬體升級的重要基礎;另一方面,材料結構愈複雜,也同步拉高X-射線(X-ray)等…

先進半導體製程持續微縮,加上HBM、3D NAND與立體元件結構增加,CMP(化學機械平坦化)正從晶圓製程中的單一環節,轉變為影響良率的重要製程,也讓過去較少受到市場注意的研磨墊、研磨液等耗材價值相對地提高。 最新產業資料顯示,7奈米以下邏…

半導體封裝設備供應商鈦昇科技宣布,其馬來西亞子公司「E&R SEMICONDUCTOR (MALAYSIA) SDN. BHD.」將於 10 月 13 日在馬六甲自由貿易區舉行新廠開幕典禮。 為因應東南亞客戶需求快速增加,鈦昇推動半導體包材…

面臨AI、高效能運算與低功耗電子需求快速成長,半導體元件持續微縮與新材料開發成為全球科技競爭關鍵。二維半導體材料的功能設計出現新進展。臺灣跨校研究團隊透過化學氣相沉積(CVD),成功製備1H堆疊雙層二硫化鉬(MoS2),使得其呈現直接能隙、…

AI晶片推升先進製程需求,半導體微縮競賽正由既有EUV邁向High-NA EUV。ASML最新High-NA曝光設備單價約4億美元,約為現行EUV兩倍,然而隨著Intel、台積電、三星及SK海力士陸續確認或規劃導入,High-NA已逐步由研…

當半導體製程持續微縮、量子與二維材料快速發展,量測技術也面臨更高精度與可靠度的要求。由工研院共同舉辦的全球先進材料標準化合作平台「凡爾賽先進材料與標準計畫(Versailles Project on Advanced Materials a…

先進半導體微縮競爭從EUV曝光設備延伸至光阻、光罩與量測材料。日本王子控股(Oji Holdings)與imec合作開發的木質生質光阻,透過High-NA EUV曝光已成功形成10奈米線寬及16奈米孔洞圖形,鎖定A14世代製程,更重要的是不…

AI正從半導體產品需求來源,進一步成為晶片製造工具。三星電子宣布與法國Mistral AI建立策略合作,將大型語言模型及AI平台導入半導體DS部門,結合三星自身製程與工程資料,打造半導體專用On-Premises AI,應用範圍涵蓋資料分析…

半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM…

默克於 SEMICON Taiwan 2026 展示其持續轉型為半導體產業「整合解決方案夥伴」的策略佈局。面對日益複雜的晶片架構,與對系統級效能大幅提升的需求,默克展示如何透過整合式流程解決方案,結合先進材料科學、設備、量測與檢測,以及數位…

全球半導體技術正由傳統的二維平面微縮,全面加速跨入高密度立體堆疊時代。隨著晶片互連結構更為精細、多晶粒整合面積與厚度增加,製程中的應力翹曲、介面平坦化與良率控制已成為關鍵瓶頸,使先進封裝材料從單純的輔助耗材,轉型為決定 AI 系統整體效能與…