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ST與CMP為產學界導入28奈米CMOS製程技術

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意法半導體(ST)與CMP(Circuits Multi Projets)於日前攜手宣佈,大專院校、研究實驗室及企業將可透過CMP提供的矽晶中介服務,使用意法半導體的28奈米(nm)CMOS製程開發晶片設計。

雙方在上一代CMOS合作專案的成功,促使了這次推出的28奈米 CMOS製程服務。雙方於2008年、2006年、2004年及2003年分別推出 45奈米、65奈米、90奈米及130奈米製程服務。此外,CMP並為意法半導體提供65奈米和130奈米絕緣層上覆矽(SOI)以及130奈米 SiGe製程服務。

舉例來說,170所大專院校和企業已可使用意法半導體的90奈米 CMOS製程設計規則和工具,200餘所大專院校和企業(60%爲歐洲客戶;40%爲美洲和亞洲客戶)已可使用65奈米bulk和 SOI CMOS製程設計規則和工具。目前,45/40奈米 CMOS製程服務仍在開發階段。

CMP總監Bernard Courtois表示:客戶對使用這些製程設計晶片非常感興趣,大約有300項專案採用90奈米技術(皆已於2009年完成)、200項專案採用65奈米技術。此外,採用65奈米 SOI技術的專案更達60項,多所歐洲、美國及亞洲的知名大專院校已因CMP / 意法半導體的服務而受益。

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關鍵字:28奈米CMOS製程