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搜尋「電鍍化學」,共 9

杜邦電子與工業事業部宣布,Nikal BP 電鍍化學品系列又添新成員- Nikal BP BAF Ni 電鍍鎳。這款新增的化學品不含硼酸,是凸塊下金屬化層 (UBM) 封裝應用更為安全的電鍍選擇。 UBM是一種先進的封裝工藝,需要在集成電路

SEMI(國際半導體產業協會)與TechSearch International連袂發表報告指出,2017年全球半導體封裝材料市場規模達167億美元。 SEMI台灣區總裁曹世綸表示:受智慧型手機與個人電腦等帶動整體產業成長的傳統項目銷售不如

為2D互連和3D矽穿孔封?提供濕沉積技術與化學材料的開發商與生產商aveni S.A.宣佈,其已獲得成果顯示可有力支持在先進互連的後段製程中,在5nm及以下技術節點可繼續使用銅。 Aveni執行長Bruno Morel指出,值此銅集成20週

ECTC 2015針對微電子領域中的永續性舉行了一場特別會議。在會議期間,高通公司的Michelle Lee談及透過涵蓋環保、社會和企業的共同治理以驅動長期成長與獲利的公司策略。這項工作中一部份包括了推展供應鏈的社會與道德責任。因此,Mic

銅電鍍在先進半導體封裝中是形成重分佈層( RDLs )的主流解決方案, RDL是傳遞處理進出封裝的資料的導電跡線,也作為晶片小尺寸I/O 及與電路板更大尺寸連接之間的一種過渡。逐漸地,銅被用來做為增加 I/O 數的解決方案,而相較於傳統控制

已成為目前多數高階產品所採用的覆晶封裝雖然具備不少優點,但卻也面臨不少成本及技術上的限制,晶片凸塊即是增加成本、又不符合環保的一大問題;而無凸塊覆晶封裝技術的推出,可說是為覆晶封裝帶來一大技術上的革新,本文之目的為討論此一封裝技術的設計概念及製程技術。

奈米晶片已成為新世代研發重點,在各種製程中,廠商需要更多更廣的解決方案進行更深入的研發,筆者以半導體的推動主力及目前各種製程研究詳加介紹,並與大家交流探討其趨勢。