先進製程邁入10nm以下時代 科磊推三款光罩檢測系統 (2016.08.19)

隨著半導體先進製程的推演，10奈米（nm）與7nm製程終露曙光；然而，先進製程須得搭配上更先進的光罩檢測技術；晶圓檢測設備製造商KLA-Tencor（科磊）看準了此一檢測需求，針對 10 奈米及7奈米製程，推出了三款先進的光罩檢測系統，分別…

變型照明技術--Off-Axis Illumination(OAI) (2000.02.01)

參考資料：…