國家儀器(NI)發表PXIe-4163高密度電源量測單元(SMU)，其DC通道密度為上一代NI PXI SMU的6倍，適合用來測試RF、MEMS與混合訊號，以及其他類比半導體元件。
NI全球銷售與行銷執行副總EricStarkloff表示：「5G、物聯網與自動化汽車等高顛覆性技術的出現，迫使半導體產業必須持續推動技術發展，並採用更具效率的方式來進行半導體測試。半導體測試在NI的策略佈局中佔有重要地位；正因如此，我們正積極擴充旗下軟體平台與PXI的功能，並促成最新款PXI SMU的問世；PXI SMU可協助晶片製造廠解決眼前的重大挑戰。」
許多晶片製造廠均已迅速採用半導體測試系統(STS)，以達到提高產量、提升成本效益與縮減生產線規模等目的。新款PXIe-4163 SMU可進一步發揮上述功效。PXIe-4163 SMU具備更高的DC通道密度，能在多站點應用上實現更高等級的平行機制，同時透過可立即用於生產的規格，達到實驗室等級的量測品質。工程師可結合運用上述優勢，將相同的儀控設備運用在檢驗實驗室與生產線上，如此即可減少與量測相關的種種難題，並縮短上市時間。
STS於2014年首度發表，為半導體生產測試提供了截然不同的方式。STS是以NI PXI平台為基礎所建置而成，可協助工程師建置更具智慧效能的測試系統。這款PXI平台涵蓋1GHz頻寬的向量訊號收發器、fA系列SMU、領先業界的商用現貨測試管理軟體TestStand，以及超過600款PXI產品(從DC到mmWave皆包含在內)。
