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搜尋「Globalpress Summit 2010」,共 8

當晶圓製程從45奈米進入28奈米甚至更微型化的階段時,其所需面對的問題則更為複雜,在實體架構設計(physical design)、DFM(design for manufacturing)、光學微影技術(Lithography)和漏電流等

當晶片設計從45奈米進入28/22奈米階段,無論是晶片設計前端或後端,降低功耗和雜訊的重要性,更加被ASIC和EDA廠商所重視。以往晶片封裝等級的電源整合設計還是不夠,現在從系統級晶片設計一開始,就要提供降低雜訊的解決方案,進一步全面關照電

隨著多媒體影音資料傳輸需求的不斷提昇,頻寬需求量也越來越高,頻寬背後的處理效能也越來越受到重視。從內部核心架構到外部市場策略,少量多樣的FPGA設計也面臨轉折點,客製化的彈性中仍見一般的堅持。 Altera市場行銷資深副總裁Danny Bi

MEMS市場的未來動向也是此次全球電子產業媒體高峰會(Globalpress Summit 2010)的關注焦點之一,與會人士除了針對下一波MEMS高峰的驅動力進行熱烈討論外,藉由軟體資源的輔助和製程經驗的累積,擴展MEMS應用的影響力,成

節能設計正成為此次全球電子產業媒體高峰會(Globalpress Electronics Summit 2010)的焦點議題,從可編程閘陣列(FPGA)、可編程元件(PLDs)、混合訊號處理、晶圓製程、嵌入式設計、LED、OLED和太陽能、

一年一度的全球電子產業媒體高峰會(Globalpress Electronics Summit 2010)已在美國時間25日晚上於Santa Cruz正式展開,美普思(MIPS)率先打前鋒,向來自歐、亞、北美各地約45位電子產業媒體們介紹其

GlobalPress所主辦的Electronics Summit 2008展會,共有來自全球50國媒體記者與超過30家科技廠商共同參與,在終年放晴的舊金山舉辦此次活動,也象徵為科技產業帶來耀眼的新契機。本系列報導最後單元,將著重曝光許多讀者鮮知的美國科技廠商,例如發展跳頻展頻技術的PulseCore、微型投影模組的Microvision、與開發純甲醇燃料電池的MTI等廠商,也歡迎讀者參考。

電子產業一直盼望再次看到市場的起飛點,但總有時不我予之嘆。為能清楚掌握市場脈動,進而解決可見瓶頸,由Globalpress Connection所主辦的第一屆電子產業高峰會,共邀集了二十多家IC業界重要廠商及研究單位,以及來自歐、美、亞三十多個國家中約五十位的代表性媒體記者參加。