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搜尋「3D TSV」,共 144

HBM4將AI記憶體競爭推向更複雜的3D異質整合。除了提高頻寬與堆疊容量,新一代HBM開始把DRAM Stack與Logic Base Die、TSV及先進封裝更緊密整合,製程中的微小Void、Bump異常、Bonding偏移或TSV缺陷,

AI晶片持續拉升HBM需求,記憶體競爭正在由容量、頻寬與傳輸速度,進一步深入「良率工程(Yield Engineering)」。隨著HBM從8層、12層往16層堆疊發展,TSV、Micro-bump與Bonding結構更加密集,任何單層DR

中國AI晶片自主化正進入更困難的下半場。華為、寒武紀、沐曦等業者持續推出國產AI加速器,逐步降低對NVIDIA依賴,但真正限制系統效能與量產規模的關鍵,已由單純GPU/NPU設計能力轉向HBM高頻寬記憶體。HBM也因此成為中國建立完整AI算

半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM

全球半導體技術正由傳統的二維平面微縮,全面加速跨入高密度立體堆疊時代。隨著晶片互連結構更為精細、多晶粒整合面積與厚度增加,製程中的應力翹曲、介面平坦化與良率控制已成為關鍵瓶頸,使先進封裝材料從單純的輔助耗材,轉型為決定 AI 系統整體效能與

AI晶片供應鏈的在地化,正從GPU與伺服器進一步延伸至高頻寬記憶體(HBM)。SK hynix於美國印第安納州West Lafayette正式啟動先進封裝基地,投資逾40億美元,規畫2029年下半年開始量產下一代HBM,並且明確將HBM4E

為滿足DRAM與先進封裝技術創新需求,應用材料公司近期推出一系列晶片製造新系統,以支援製造新一代AI晶片所需的3D架構。包含專為DRAM晶圓廠打造的磊晶(Epitaxy)系統、化學機械平坦化(CMP)與沉積系統、電子束系統(eBeam),挑

啟諾迪電子公司(Qnity Electronics, Inc.)今日宣布推出「先進封裝線上創新平台」,展示其專為先進封裝設計的廣泛材料與技術解決方案,加速下一代AI、HPC、雲端與邊緣運算系統的發展。 隨著半導體產業超越摩爾定律,技術創新正

於本周進行的2026年IEEE/JSAP超大規模積體電路(VLSI)技術與電路研討會上,比利時微電子研究中心(imec)與索尼(Sony)共同發表一套用來建立超高密度晶背內連的創新整合模組,這些連接是3D堆疊和晶背功能化技術的關鍵組件。 該

ams OSRAM 如何透過 ASIC 客製化、晶片層級創新(in-silicon innovation)與先進封裝技術,為工業與醫療應用提供兼具可靠性、高效率與高效能的感測解決方案。

為了探討AI時代的散熱轉型,本文特別採訪了新思科技,以及Cadence。從物理模擬與系統級分析的角度,剖析如何為新一代AI基礎建設打造最堅實的散熱後盾。

過去兩年間,我們見證了AI數據中心對大容量記憶體近乎瘋狂的渴求。這種需求不僅推升了SK海力士與三星的獲利表現,甚至引發了全球記憶體生產節奏的劇烈震盪。

中國在記憶體領域正在悄然發動一場變革。據報導,部分中國記憶體製造商正積極推進 DDR5 在AI加速器中的應用,並期望以 DDR5 替代傳統由HBM主導的市場。 在傳統架構中,HBM 由於其極高的記憶體頻寬與低功耗特性,一直是大型 AI 推理

新思科技(Synopsys)擴大與台積電(TSMC)在先進製程、封裝與設計賦能(design enablement)上的合作,藉由完整的 EDA 工具、AI 驅動設計平台以及廣泛的基礎與介面 IP,協助全球半導體客戶加速 AI 與多晶粒晶片

對於台灣機械設備與材料產業而言,這既是被動應對全球變動的必要策略,也是主動從「設備/材料出口」轉型為「高階封裝整合生態系統供應商」的千載機會。

隨著半導體製程技術不斷朝向更細、更複雜的節點演進,對高性能晶圓拋光材料的需求正快速攀升。根據最新市場報告顯示,化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)Slurry 市場規模預計至 2035 年將達

3D晶片整合的關鍵技術「矽穿孔」(TSV) 有了新的突破,《Microsystems & Nanoengineering》期刊日前發布一項研究,揭示一種新型「雙面PI-Ni」TSV製程。此技術透過創新的雙面加工流程,巧妙地將「化學機械研磨」