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搜尋「晶片微縮」,共 19

比利時微電子研究中心(imec)近日宣布所採購的ASML最新EXE:5200高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影系統已順利到廠,將進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位,並提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮

電子束成像一直是重要的檢測工具,可看到光學技術無法看到的微小缺陷。應用材料公司推出新的缺陷複檢系統,幫助半導體製造商持續突破晶片微縮的極限。應材的SEMVision H20系統將電子束(eBeam)技術結合先進的AI影像辨識,能夠提供更精準

為深入探究高效能運算(HPC)與晶片技術如何交融驅動未來發展,推動實際需求的創新應用。由國研院國網中心主辦的「亞洲高效能運算研討會」(HPC Asia 2025)於2月19至21日在新竹登場。本次研討會以「Chip-based Explor

隨著半導體製程技術的持續進步,晶片微縮已達到物理極限,傳統的光刻技術面臨挑戰。在此背景下,原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)技術因其薄膜沉積精度,成為推動半導體微縮的關鍵技術之一。 ALD是一種氣相化學沉積

因AI人工智慧驅動半導體需求,全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今(6)日於SEMICON Taiwan 分享新一代高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影技術,並表示將協助晶片製造商簡化製造工序、提高產能,並降低每片晶圓

面對當代的重大挑戰時,人工智慧應用越來越廣泛,未來的運算需求預計會每半年翻漲一倍。為了在處理暴增的巨量資料的同時維持永續性,需要經過改良的高性能半導體技術。

要讓每總體擁有成本(TCO)的晶片性能躍升,系統級設計、軟硬體(電晶體)協同設計優化、同時探索先進算力,以及多元化的專業團隊與能力,全都至關重要。

年度最大半導體盛事SEMICON Taiwan 2022國際半導體展即日起,開放展覽期間22場國際技術趨勢論壇報名,今年論壇將以現場實體方式進行,增加講者及與會者的面對面交流機會,席次有限敬請把握機會。 今年SEMICON Taiwan展覽

隨著半導體先進製程推進到2奈米(nm)之後,晶片微縮電路的布線與架構,就成為性能與可靠度的發展關鍵,而imec的論文則為2奈米以下的晶片製程找到了一條兼具可行性與可靠度的道路。

比利時微電子研究中心(imec)於本周舉行的2022年IEEE國際超大型積體電路技術研討會(VLSI Symposium),首度展示從晶背供電的邏輯IC佈線方案,利用奈米矽穿孔(nTSV)結構,將晶圓正面的元件連接到埋入式電源軌(burie

隨著元件尺寸越接近摩爾定律物理極限,晶片微縮的難度就越高,要讓晶片設計保持小體積、高效能,除了持續發展先進製程,也要著手改進晶片架構(封裝),讓晶片堆疊從單層轉向多層...

愛美科CMOS元件技術研究計畫主持人Naoto Horguchi、奈米導線研究計畫主持人Zsolt Tokei彙整各自的領域專長,將於本文一同呈現先進製程技術的發展藍圖。

隨著製程不斷演進,晶片在微縮過程中,不論是哪一道流程都會面臨不少的挑戰,像是晶圓本身要進行凸塊生成或是晶片本身要與PCB(印刷電路板)進行焊接等,這些都是晶片微縮後會造成的影響。而為了能進一步擴大接腳數量,同時也因應晶片微縮的問題,通常高度

摩爾定律究竟能否延續?許多人把希望放在3D IC上。不過,工研院電光所顧子琨組長表示,3D IC的確是一項不錯的技術,但未來挑戰仍多,台灣產業要注意如何整合共創商機。 隨著智慧型手機的風行,晶片微縮化堪稱是一場革命。除了水平上的縮小,3D

在美國加州Montery舉辦的電子高峰會(Electronics Summit 2006),今年已是第四屆了,仍有來自歐、亞、美等地約六十位的記者參加,以及半導體製造、晶片設計、EDA等近五十家電子產業大廠及新創公司來此參與演說、論壇及訪談。本文將著重半導體/晶片設計上的發展趨勢分析,並以包括Gartner及IBM的演說為介紹主軸。

掌上型電玩的性能遠不及桌上型,應該相當適合台灣業者來開發,現有台灣業界在相關零組件上也有不錯的能力,進入的障礙應比桌上型電玩要低,唯如何作一整體包裝,並和日本產品造成區隔,始終是業者裹足不前的一大障礙。