突破AI算力微縮瓶頸 科林研發深耕先進封裝與在地生態系 (2026.09.09)
半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM…
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半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM…
AI晶片算力與功耗持續攀升,熱管理正從資料中心、伺服器機櫃及冷板,進一步向半導體製程與先進封裝內部推進。隨著CoWoS、3D IC等異質整合提高晶片密度,熱源更集中於封裝內部,傳統由晶片表面向外散熱的架構逐漸面臨熱阻瓶頸,促使微流道(Mic…
半導體產業的競爭焦點正全面延伸至先進封裝與晶片層級的散熱架構。創浦(TRUMPF)於 SEMICON Taiwan 2026 期間,展示針對 AI 晶片堆疊的「整合式晶片內部冷卻技術」,並同步發表用於玻璃基板(Glass Substrate…
生成式AI帶動算力需求持續攀升,半導體競爭焦點已由單一先進製程,轉向運算、記憶體、封裝與高速互連的系統級整合。台積電在SEMICON Taiwan 2026展前論壇指出,未來AI基礎設施新增容量可能由過去每年約5至6GW,提高至30至40G…
隨著AI軟硬體不斷演進,記憶體的重要性如今已幾乎與算力並列,成為最重要的戰略資產。…
啟諾迪電子公司(Qnity Electronics, Inc.)今日宣布推出「先進封裝線上創新平台」,展示其專為先進封裝設計的廣泛材料與技術解決方案,加速下一代AI、HPC、雲端與邊緣運算系統的發展。 隨著半導體產業超越摩爾定律,技術創新正…
智慧眼鏡與AR(擴增實境)穿戴裝置正成為繼智慧型手機後,全球科技巨頭下一個兵家必爭的科技革命新藍海。…
為了探討AI時代的散熱轉型,本文特別採訪了新思科技,以及Cadence。從物理模擬與系統級分析的角度,剖析如何為新一代AI基礎建設打造最堅實的散熱後盾。…
迎接埃米時代對晶圓潔淨與先進製程穩定性的高度要求,資騰科技在今年3月25~27日舉行的SEMICON China展示各項先進製程解決方案。其中CMP(Chemical Mechanical Polishing,化學機械研磨)超潔淨空氣PVA…
IBM與半導體設備商科林研發(Lam Research)共同宣佈一項為期5年的戰略合作計畫,目標要達成「次1奈米(Sub-1nm)」邏輯晶片的技術開發。這項聯盟將結合IBM在先進半導體材料的研究實力,以及Lam Research在製程設備上…
過去兩年間,我們見證了AI數據中心對大容量記憶體近乎瘋狂的渴求。這種需求不僅推升了SK海力士與三星的獲利表現,甚至引發了全球記憶體生產節奏的劇烈震盪。…
繼2023年發表全台首部自主研製的5位元超導量子電腦後,中央研究院今(29)日再公布完成新一代「20位元超導量子晶片」,並成功導入量子電腦系統後,使台灣正式站上「大型量子晶片製程」的重要起跑點,將開放學研界進行量子模擬等研究,未來也可提供產…
SoIC不僅象徵後摩爾定律時代的技術方向,也代表台灣在全球技術競局中持續領先的關鍵力量。當全球算力需求加速成長,SoIC 將是推動未來十年半導體產業變革的核心引擎。…
對於台灣機械設備與材料產業而言,這既是被動應對全球變動的必要策略,也是主動從「設備/材料出口」轉型為「高階封裝整合生態系統供應商」的千載機會。…
英特爾公布新一代客戶端Intel Core Ultra處理器(代號 Panther Lake)的架構細節,該產品預計將於今年稍晚開始出貨。Panther Lake是英特爾首款採用Intel 18A製程的產品,而Intel 18A是在美國研發…
迎接全球AI基礎建設熱潮,美商應用材料公司近日也發表最新半導體製造系統,將專注在3大關鍵領域,分別是環繞式閘極(GAA)、電晶體在內的前瞻邏輯製程、高頻寬記憶體(HBM)在內的高效能DRAM等。進而提升AI運算所需的先進邏輯與記憶體晶片效能…
人工智慧與高效能運算需求快速成長,全球晶片產業正加速走向 3D 堆疊與異質整合的新時代。然而,在帶來運算效能飛躍的同時,這些先進封裝技術也揭露了製造端的嚴峻挑戰。 小晶片(chiplet)架構已成為支撐 AI 的關鍵技術,透過記憶體與處理單…
先進封裝突破製程微縮瓶頸,透過異質整合與高密度互連,成為推動多項應用邁向新世代的關鍵推手。…
半導體材料設計與製造商Soitec宣布,已與力積電(PSMC)建立策略合作夥伴關係,共同推動先進晶片技術的發展。 根據這項合作協議,Soitec將提供力積電300mm 晶圓,這些晶圓整合了離型層,並已為「電晶體層轉移 (Transistor…
在半導體製造過程中,晶圓清洗技術的精度直接影響晶片良率與性能。隨著製程節點邁向28奈米及更先進技術,傳統濕式清洗已無法滿足需求,而高溫硫酸過氧化混合物(SPM)設備因其優異的光刻膠去除與金屬剝離能力,成為不可或缺的關鍵設備。近期,盛美半導體…