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搜尋「奈米」,共 4053

AI晶片推升先進製程需求,半導體微縮競賽正由既有EUV邁向High-NA EUV。ASML最新High-NA曝光設備單價約4億美元,約為現行EUV兩倍,然而隨著Intel、台積電、三星及SK海力士陸續確認或規劃導入,High-NA已逐步由研

聯發科技發布天璣9600系列旗艦5G Agentic AI晶片-天璣9600 Pro及天璣9600 M。天璣9600 Pro匯集天璣旗艦行動晶片超性能、超能效優勢,並擁有為Agentic AI體驗打造的AI技術及持續推動體驗進化的豐富生態系

當半導體製程持續微縮、量子與二維材料快速發展,量測技術也面臨更高精度與可靠度的要求。由工研院共同舉辦的全球先進材料標準化合作平台「凡爾賽先進材料與標準計畫(Versailles Project on Advanced Materials a

富士通(Fujitsu)成功開發出全球首款結合錫-空位(SnV)中心與光學積體電路的鑽石自旋量子電腦原型機。此項技術突破不僅運作溫度高於傳統超導量子電腦,更透過高保真度與光學互連特性,為量子電腦邁向「模組化大規模擴展」奠定關鍵里程碑。 該成

先進半導體微縮競爭從EUV曝光設備延伸至光阻、光罩與量測材料。日本王子控股(Oji Holdings)與imec合作開發的木質生質光阻,透過High-NA EUV曝光已成功形成10奈米線寬及16奈米孔洞圖形,鎖定A14世代製程,更重要的是不

第一篇探討AOI的「眼睛」與「感覺器官」,從人工檢查的限制著手,討論感測器、光學配置、3D量測及評估指標,強調AI視覺在工廠應用前需建立可重現、可比較和可追溯的事實層。

工研院今(7)日舉行「第15屆工研院院士授證典禮」,由總統賴清德為台積公司執行副總經理暨共同營運長秦永沛、瑞昱半導體董事長邱順建及臺北榮民總醫院院長陳威明授證。三位新科院士分別橫跨半導體製造、資訊通訊及智慧醫療領域,不僅在各自專業領域持續突

迎合近年來AI驅動半導體新增先進封測、矽光子共同封裝(CPO)等需求,已成為台灣精密機械及自動化設備廠商在今年SEMICON Taiwan焦點。Renishaw(雷尼紹)公司也在現場展示旗下全系列光學尺的先進位置反饋與計量校準技術,協助半導

AI算力需求快速膨脹,半導體產能瓶頸已從GPU與CoWoS,進一步擴散至晶圓廠、設備、材料、廠務甚至建廠人力。台積電副共同營運長侯永清在SEMICON Taiwan 2026指出,AI需求增速是過去30年未見,若以去年底設備需求預估為基準,

全球半導體技術正由傳統的二維平面微縮,全面加速跨入高密度立體堆疊時代。隨著晶片互連結構更為精細、多晶粒整合面積與厚度增加,製程中的應力翹曲、介面平坦化與良率控制已成為關鍵瓶頸,使先進封裝材料從單純的輔助耗材,轉型為決定 AI 系統整體效能與

人工智慧(AI)正從影像判讀進一步走向生醫研究儀器化。國家衛生研究院攜手國立清華大學開發「AI影像辨識技術精準判別實驗動物行為」系統,將攝影機、深度學習與AI辨識模型整合為可安裝於既有動物飼育籠的多功能影像紀錄器,能連續24小時監測並辨識至

基於晶片製程加速邁向2奈米、先進封裝加速異質整合,材料已成為驅動半導體創新與供應鏈韌性的戰略關鍵。SEMI國際半導體產業協會近期也正式成立「SEMI半導體材料聯盟」(SEMI Taiwan Materials Alliance),將以台灣完

在半導體產業過去數十年的發展歷程中,摩爾定律始終是算力競賽的最高指引——只要縮小電晶體尺寸,就能換取更高的效能與更低的能耗。然而,隨著先進製程邁向 2 奈米、進入環繞式閘極(GAA)架構與晶背供電(如 A16)的極限領域,物理邊際效益顯著遞

imec的量測專家在本文帶領讀者探索深耕40年的晶圓廠量測與檢測技術,瞭解圖形化和元件創新歷史的四大時期,提供imec前瞻量測發展藍圖,其發展動力與多項重大挑戰相關,包含尺寸微縮和3D技術的興起,還有成本和永續發展需求。

繼今年8月登錄興櫃以來,東佑達自動化科技接著參與今年8月19~22日舉行的「2026台北國際自動化工業大展」,並在其M120攤位上展出人形機器人的軸關節與肌肉致動器,以及AI高速運算所需CPO光耦合平台、半導體封裝製程的高精度氣浮平台等3大

為深化台美科技交流合作,國科會主委吳誠文率團於美東時間8月13~14日,先後訪問美國德州太空委員會(Texas Space Commission)、德州大學奧斯汀分校(UT Austin),以及賓州匹茲堡卡內基美隆大學(Carnegie M