imec光阻劑減量:MOR曝光後烘烤步驟注入氧氣成為產量關鍵推手 (2026.03.03)
日前舉行的2026年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography + Patterning Conference)上,比利時微電子研究中心(imec)展示在EUV微影曝光後步驟精準控制氣體成分有…
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日前舉行的2026年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography + Patterning Conference)上,比利時微電子研究中心(imec)展示在EUV微影曝光後步驟精準控制氣體成分有…
比利時微電子研究中心(imec),在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾(ASML)合作建立的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室中,利用數值孔徑0.55的極紫外光曝光機,發表了曝光後的圖形化元件結構。在單次曝光後,9奈米和5奈米(間…
比利時微電子研究中心(imec)與艾司摩爾(ASML)共同宣布,雙方於荷蘭費爾德霍溫合作開設的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室正式啟用,為尖端的邏輯、記憶體晶片商以及先進的材料、設備商提供第一部高數值孔徑(high-N…
晶圓接合暨微影技術設備商EV Group(EVG)宣布,發表次世代200毫米版本的EVG150自動化光阻製程系統,擴大光學微影領域的優勢。重新設計的EVG150平台包括先進功能與強化項目,與前一代平台相比,可提供高出80%的製程產出、通用性…
甫於今年8月底落幕的「Intelligent Asia亞洲工業4.0暨智慧製造系列展」,不僅再度集結了自動化、機器人、模具、3D列印、物流、冷鏈科技、雷射、流體傳動和數位化機械要素共9大主題區,展示從製造端到應用端所需設備硬、軟體和系統解決方案,還能迎合企業全方位節能減碳的需求。…
展望2050淨零碳排需求商機,在今年台北國際自動化工業大展期間,除了可見各家機電自動化大廠皆紛紛推出抑制排碳領域的相關產品。台灣的指標大廠士林電機也利用自主掌握的研發設計、製造等優勢,提供全方位解決方案。 士林電機聚焦於工業4.0智慧製造,…
隨著電子產品趨於輕薄短小,加工尺寸也相應的微小化,各種創新加工技術和各式各樣的微細製造模具也因應而生。由早期的印刷雕刻模具到半導體的微影曝光光罩,以及穿戴裝置產業需要更小的圖案、更大的尺寸及軟性模具等。冠橙科技具有大尺寸光罩基板技術,能與微…
完全整合的UV奈米壓印微影(UV-NIL) Track System結合EVG微影與光阻製程專長;應用領域涵蓋光子、微機電和奈米機電元件等 微機電、奈米技術、半導體晶圓接合暨微影技術設備商EV Group(EVG)推出HERCULES NI…
軟性、纖薄、輕量已成為未來顯示器及觸控面板的發展趨勢。而這一趨勢意味著生產設備和技術需不斷地提升,以滿足日益增長的市場需求,開拓更多創新應用。作為世界領先的顯示器和觸控面板生產領導設備商, Manz亞智科技能為業界提供最廣泛的生產技術,涵蓋…
支援多點觸控的技術不只一種,功能上各有優劣,在不同的應用環境與條件下,特定的多點觸控技術有其一定優勢。沒有一項多點觸控技術是十全十美的,也沒有任何一項可以全面取代其他,任何一種多點觸控技術,都各有一片天。掌握相關軟硬體整合能力,廠商也才能在混沌未明的市場裡脫穎而出。…
在Windows 7和iPad話題效應的帶動之下,多點觸控面板正成為眾所矚目的焦點。台廠富創得(FORTREND)以獨特的半導體投射電容觸控面板製程,不僅能有效提高良率達95~98%,並且大幅降低製程成本。富創得強調半導體投射電容面板製程技…
自從第一台液晶顯示器問世以來,液晶顯示技術挾其低成本與輕便性等優勢,淘汰CRT顯示技術,全面攻佔資訊顯示市場。目前TFT-LCD顯示技術已經成熟,未來肯定將在更多應用領域大放光彩。本文將介紹TFT-LCD面板之原理、結構與主要製程。…
本文所探討的晶圓表面處理技術,將介紹如何在批次型噴霧清洗設備的協助下,利用飽和臭氧含量的去離子水來處理化學氣相沉積的有機矽玻璃低介電常數薄膜,並且分析所得到的光阻去除結果;這項製程不會導致低介電常數性質或微距的改變,此外也證明利用腐蝕抑制劑,就能降低臭氧製程對銅腐蝕效應。…
長興化工日前決定加碼投資9.5億元於大發工業區內擴充產能,並另購廠地,增建全新廠房及設備,從事LCD相關光學膜的生產。 長興化工於今年成立光學膜專案組,串連、整合原有的合成樹脂、功能塗料、感光材料、紫外線硬化、奈米材料、精密塗裝、無塵室管理…
由於具備質量輕、體積小、省能源的特性,TFT LCD廣泛應用於包括手機、PDA、TV等電子產品領域,而其中又以LCD TV的未來發展趨勢最受市場關注;本文即針對彩色濾光片應用於LCD TV之相關產品,其規格需求以及技術現況進一步說明與探討。…