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虹彩光電新一代超寬溫全彩電子紙顯示技術 可跨足多元場域

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虹彩光電於 CEATEC 2025 展覽會上發表最新一代「超寬溫全彩電子紙」顯示技術,展示能在 -20℃至 85℃環境下穩定運作的顯示方案,並同步推出小尺寸超低功耗產品、大尺寸拼接應用與升級版 Ming Display 2.0,展現彩色電子紙跨足多元場域的潛能。

虹彩光電新一代 ChLCD 技術能呈現超過 1,678 萬色,色域覆蓋率達傳統海報輸出的 70%,在強烈陽光下依然清晰可讀,兼具室內外顯示需求與節能特性。這項技術以膽固醇液晶分子自組結構為基礎,藉由反射式顯示原理達到無背光全彩效果,功耗僅約 5mW,並符合 IEC 62301 節能標準,特別適用於需長時間運作且受環境限制的裝置。

此次展會中,虹彩光電以三大方向展示技術成果:其一是「超寬溫全彩顯示」,可應對極端氣候與戶外環境;其二是「大尺寸拼接技術」,支援智慧廣告牆與公共資訊看板;其三則是「輕薄低功耗設計」,拓展至智慧零售、導覽系統及室內電子標牌等應用。全新 Ming Display 2.0 更整合影像播放與資訊展示功能,進一步強化多元場域的資訊呈現能力。

超大規模資料中心重塑AI基礎設施
特別企劃半導體AI

超大規模資料中心重塑AI基礎設施

為了增加資料傳輸的速度、距離和效率,AI生態系統正在探索射頻(RF)矽中介層技術,以實現互補式金氧半導體(CMOS)、雙極互補式金氧半導體(BiCMOS)與三五族材料的異質整合。

為了增加資料傳輸的速度、距離和效率,AI生態系統正在探索射頻(RF)矽中介層技術,以實現互補式金氧半導體(CMOS)、雙極互補式金氧半導體(BiCMOS)與三五族材料的異質整合。