據業界消息，台積電積極推動的半導體新一代技術浸潤式（immersion）微影技術，又向前邁進一步，該公司向設備大廠ASML採購的193奈米雛形機已經運抵新竹，並正式移入台積電12廠，台積電研發部門將利用該設備進行相關製程研發，並預計於65奈米世代量產此技術。
據了解，ASML的雛形機台可說是台積電首次主導業界規格的新設備，另兩家半導體設備廠日本Cannon與Nikon，也將在2005年陸續推出浸潤式193奈米微影設備。而國際半導體技術藍圖（ITRS）年會，也已正式將浸潤式微影技術列入ITRS的討論項目之中。
原本全球三大半導體微影設備廠發展157奈米微影技術，整個光源、顯影劑、光罩、及蝕刻材料都需大翻新，研發成本較193奈米技術至少倍增。193奈米浸潤式微影設備的問世，晶圓廠只需支出較193奈米「乾式」微影設備多出約一、二成的價格，即可達到原本157奈米顯影機才能處理的微細線寬，因此該設備成為全球各大半導體廠商間的搶手貨。
浸潤式微影技術最主要的推動者是台積電微製像技術發展處資深處長林本堅；林本堅十多年前從美國IBM退休以後，於2000年至台積電主持微影技術研發，近二年來奔走於國際間微影技術相關研討會，鼓吹業界考慮浸潤式技術的可行性。
