全球精密工程与制造技术公司 Renishaw 将於 SEMICON Taiwan 2026 展示先进位置反??与计量校准技术，呈现如何协助半导体设备制造商提升机台精度、运动控制表现与制程稳定性。

完整多自由度(Multi-DoF) 量测方案，掌握高精密平台动态误差

随着半导体制程持续迈向更高解析度与更高产能，高速、高精密运动平台已成为设备性能的关键。Renishaw的多自由度量测方案结合编码器、光学尺和6DoF雷射校正技术，提供从动态位置反??到机台几何误差量测，协助设备制造商在设计、组装与制程运行阶段掌握误差来源，并为後续补偿与性能优化提供可靠数据基础，充分展现其在高阶运动控制与精密量测领域的优势。
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